Disco de Titânio Target / Alvo Engenharia PVD Physical Vapor Deposition TIAI 75:25 at% BB 465 975 85567 Nr. 7

Target metálico em formato de disco produzido em liga Titânio-Alumínio (TiAl), com composição identificada na própria peça como TiAl 75:25 at%, destinado principalmente a sistemas de deposição física de vapor – PVD (Physical Vapor Deposition) e processos industriais de formação de filmes finos e revestimentos técnicos.

A marcação 75:25 at% indica uma composição expressa em porcentagem atômica, correspondendo à proporção nominal de titânio e alumínio utilizada no target. Essa informação é especialmente relevante em processos de deposição, pois a composição do alvo influencia diretamente a composição e as características do revestimento formado sobre o substrato.

A peça possui aproximadamente 160 mm de diâmetro, 12 mm de espessura e 900 gramas de peso, apresentando ainda recortes específicos distribuídos ao redor da periferia, destinados ao posicionamento, encaixe ou fixação no conjunto do equipamento. Por esse motivo, além da composição química, é fundamental que o comprador confira as dimensões, formato e sistema de montagem compatíveis com o equipamento onde será utilizada.

Targets de TiAl são utilizados como material de origem em equipamentos de deposição a vácuo. Durante o processo PVD, partículas do material do target são removidas de sua superfície e posteriormente depositadas sobre a peça que receberá o revestimento. Dependendo da tecnologia empregada, isso pode ocorrer através de processos como magnetron sputtering, sputtering reativo, arc evaporation e outras técnicas de deposição física de vapor.

Em processos de sputtering, o target atua como fonte do material que será transferido para o substrato. O bombardeamento da superfície provoca a ejeção de átomos do target, que se deslocam dentro da câmara de vácuo e formam uma camada fina sobre a superfície da peça revestida.

Produto: Target / Alvo PVD
Material: Liga Titânio-Alumínio – TiAl
Composição marcada: 75:25 at%
Código/Marcação: BB 465 975
Número: 85567
Identificação: Nr. 7
Diâmetro: 160 mm
Espessura: 12 mm
Peso: 900 g cada

Antes da compra, recomendamos conferir cuidadosamente diâmetro, espessura, posição dos recortes periféricos, sistema de fixação e composição TiAl 75:25 at%, garantindo a compatibilidade com a máquina ou processo de deposição utilizado.

Por se tratar de componente técnico especializado, não recomendamos a compra apenas com base no diâmetro externo. A compatibilidade física com o conjunto porta-target, cátodo ou fonte de deposição deve ser confirmada pelo próprio usuário.

PALAVRAS-CHAVE:

target TiAl, target PVD, TiAl 75 25, TiAl 75/25, alvo PVD, disco PVD, sputtering target, alvo sputtering, target titânio alumínio, titanium aluminum target, titanium aluminium target, TiAl target, target 160mm, target 160x12, disco TiAl, alvo deposição vácuo, material PVD, target magnetron sputtering, cathode target, alvo TiAlN, deposição filme fino, coating target, revestimento PVD, target para coating

Se precisar tirar mais dúvidas sobre o lote, ou precisar de vídeo, ou orçamento do lote, entre em contato conosco pelo e-mail: atendimento@arrematados.com ou Whatsapp 13-98155-4911