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Disco de Titânio Target / Alvo Engenharia PVD Physical Vapor Deposition TIAI 50:50 at% BB 465 975 C 86870 Nr. 10
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Lotes B2B

Disco de Titânio Target / Alvo Engenharia PVD Physical Vapor Deposition TIAI 50:50 at% BB 465 975 C 86870 Nr. 10

Ref #9239

Informações do Produto

Target metálico técnico em formato circular, fabricado em liga de Titânio-Alumínio – TiAl, destinado principalmente à utilização como material de deposição em sistemas industriais de PVD – Physical Vapor Deposition.

A inscrição 50:50 at% indica proporção atômica equivalente de titânio e alumínio. Essa composição é utilizada comercialmente na fabricação de targets destinados à deposição de revestimentos TiAl e, em processos reativos com nitrogênio, revestimentos à base de TiAlN – Nitreto de Titânio e Alumínio. Fabricantes especializados listam a composição Ti50Al50 entre as configurações usuais para targets PVD.

Marcações existentes na peça:

TiAl 50:50 at%
BB 465 975 C
86870
Nr. 10

APLICAÇÕES

Este tipo de target é utilizado principalmente como material consumível em equipamentos de deposição física de vapor – PVD (Physical Vapor Deposition), tecnologia empregada na aplicação de revestimentos finos e de alto desempenho sobre superfícies metálicas e outros substratos.

O disco atua como fonte do material metálico que será transferido para a peça durante o processo de deposição. Dependendo da arquitetura do equipamento, do método utilizado e dos parâmetros de processo, o target pode ser empregado em sistemas de sputtering, magnetron sputtering, sputtering reativo ou outras configurações de PVD compatíveis com targets metálicos TiAl.

No processo de sputtering, a superfície do target é bombardeada por íons dentro de uma câmara sob vácuo. Esse bombardeamento remove átomos do material do alvo, que posteriormente se depositam sobre o substrato formando uma película fina.

Quando o processo ocorre em presença controlada de nitrogênio, ligas Ti-Al podem ser empregadas na produção de filmes à base de TiAlN, uma família de revestimentos técnicos amplamente utilizada em ferramentas de corte e componentes sujeitos a atrito, desgaste e altas temperaturas.

Entre as aplicações típicas encontram-se:

revestimento PVD de ferramentas de corte;
fresas de metal duro ou aço rápido;
brocas;
alargadores;
machos;
insertos intercambiáveis;
ferramentas de torneamento;
ferramentas para fresamento;
ferramentas para furação;
ferramentas de conformação;
punções;
matrizes;
moldes industriais;
componentes de precisão;
peças sujeitas a desgaste abrasivo;
componentes sujeitos a atrito;
peças submetidas a temperaturas elevadas;
pesquisa de filmes finos;
desenvolvimento de revestimentos TiAlN;
laboratórios de engenharia de superfícies;
universidades e centros de pesquisa;
fabricantes de ferramentas;
empresas especializadas em coating e tratamento superficial;
fabricantes ou oficinas de manutenção de equipamentos PVD.

Revestimentos à base de TiAlN são conhecidos por sua combinação de dureza, resistência ao desgaste e estabilidade térmica, sendo utilizados em ferramentas de corte e componentes mecânicos. A Oerlikon Balzers, por exemplo, descreve sistemas TiAlN para aplicações de usinagem, conformação e componentes de precisão submetidos a elevados esforços mecânicos e térmicos.

PALAVRAS-CHAVE:

target TiAl, TiAl 50:50, TiAl 50 50 at%, BB465975, BB 465 975, target PVD, alvo PVD, disco PVD, titanium aluminum target, titanium aluminium target, target titânio alumínio, sputtering target, target sputtering, magnetron sputtering, TiAlN target, target para TiAlN, coating target, PVD coating, hard coating, alvo deposição, material deposição vácuo, target 160mm, target 160x12mm, alvo 160 mm, filme fino, thin film deposition, ferramenta revestimento PVD, target para ferramentas, tratamento superficial, alvo titânio alumínio

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