Disco de Titânio Target / Alvo Engenharia PVD Physical Vapor Deposition Titânio Puro Grade 2 CP 91931 Nr. 4

Target metálico sólido em formato circular, identificado diretamente na superfície como Titanium Grade 2, destinado principalmente a aplicações profissionais envolvendo deposição física de vapor – PVD, sputtering, vacuum coating e produção de filmes finos.

O material Titanium Grade 2 pertence à família dos chamados Commercially Pure Titanium – CP Titanium, ou titânio comercialmente puro.

É importante distinguir esse material de ligas estruturais de titânio como Ti-6Al-4V/Grade 5. O Grade 2 não depende de grandes adições de alumínio e vanádio para obtenção de suas propriedades; trata-se de um grau de titânio comercialmente puro amplamente utilizado em aplicações técnicas por apresentar equilíbrio entre pureza, resistência mecânica, ductilidade, facilidade de processamento e elevada resistência à corrosão.

Neste caso específico, a geometria do disco é característica de um target ou alvo consumível empregado em equipamentos de coating e deposição a vácuo.

O target possui aproximadamente 160 mm de diâmetro e 12 mm de espessura, além de recortes posicionados ao redor de sua circunferência. Esses recortes podem fazer parte do sistema original de montagem, posicionamento ou travamento do disco no conjunto porta-target/cátodo do equipamento.

Por esse motivo, recomendamos que o comprador técnico verifique não somente o diâmetro externo, mas também a espessura, desenho da borda, localização dos recortes e sistema de fixação antes da aquisição.

FUNÇÃO DO TARGET EM UM SISTEMA PVD

Nos processos de deposição PVD, o target funciona como a fonte sólida do material que será transferido para outra superfície.

Em um processo típico de sputtering, o disco é instalado no interior de uma câmara de vácuo e submetido ao bombardeamento de partículas energéticas, normalmente íons gerados em um plasma.

Essas partículas atingem a superfície do target e transferem energia suficiente para provocar a ejeção de átomos de titânio.

Os átomos removidos da superfície atravessam a atmosfera de baixa pressão existente dentro da câmara e posteriormente se condensam sobre o substrato que está sendo revestido.

Camada após camada, é formado um filme fino de titânio ou de um composto à base de titânio, dependendo dos gases presentes e das condições selecionadas pelo operador.

Existem estudos experimentais publicados utilizando especificamente Titanium Grade 2 como target de deposição, confirmando sua utilização efetiva em processos de magnetron sputtering.

DEPOSIÇÃO DE TITÂNIO METÁLICO

Utilizando atmosfera apropriada de gás inerte, normalmente baseada em argônio, o target pode ser empregado na formação de filmes metálicos de Ti.

Esses filmes podem ser utilizados em diferentes sistemas funcionais e experimentais, incluindo aplicações de engenharia de superfícies, óptica, eletrônica e desenvolvimento de materiais.

Fabricantes especializados de targets indicam titânio para aplicações em semicondutores, displays, revestimentos ópticos, hard coatings, acabamentos decorativos, energia e pesquisa científica.

APLICAÇÕES

sistemas PVD;
magnetron sputtering;
DC sputtering;
RF sputtering, quando compatível com o equipamento;
sputtering reativo;
deposição de filmes metálicos de titânio;
produção de revestimentos TiN;
produção de filmes TiO₂;
desenvolvimento de TiON e outros sistemas reativos;
coating de ferramentas;
revestimentos decorativos;
revestimentos funcionais;
filmes ópticos;
fabricação e pesquisa de dispositivos eletrônicos;
pesquisa de materiais;
universidades e centros tecnológicos;
semicondutores e componentes eletrônicos;
engenharia de superfícies;
desenvolvimento de filmes finos;
equipamentos industriais de vacuum coating;
laboratórios de P&D;
fabricação e manutenção de sistemas PVD.

Targets de titânio são comercialmente utilizados em sistemas de magnetron sputtering e processos reativos. Em atmosfera inerte pode-se depositar titânio metálico; introduzindo gases reativos adequados, o material pode participar da formação de compostos como TiN, TiO₂, TiON e TiCN, de acordo com a configuração e os parâmetros utilizados pelo processo.

CARACTERÍSTICAS

Produto: Target / alvo metálico para deposição
Material: Titânio comercialmente puro – CP Titanium
Grau: Titanium Grade 2
Identificação gravada: 91931
Número: Nr. 4
Formato: Disco circular com recortes periféricos
Diâmetro aproximado: 160 mm
Espessura aproximada: 12 mm
Aplicação principal: PVD / sputtering / vacuum coating
Estado: conforme fotografias reais da peça

PALAVRAS-CHAVE:

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