Conjunto de Discos / Target de Titânio-Alumínio (Ti-Al) para PVD / Sputtering Liga TiAl 84:16 At% – Ø 155 mm
Informações do Produto
CARACTERÍSTICAS DO PRODUTO
Conjunto de Discos / Target de Titânio-Alumínio (Ti-Al) para PVD / Sputtering Liga TiAl 84:16 At% – Ø 155 mm
NÃO CONTÉM ACESSÓRIOS
Informações sobre o produto:
Conjunto de discos/targets técnicos de liga Titânio–Alumínio (Ti-Al) com composição 84% Titânio / 16% Alumínio (percentual atômico), fabricado para aplicações laboratoriais e industriais de alta precisão, especialmente em processos de deposição física de vapor (PVD), sputtering e pesquisa em ciência dos materiais.
Trata-se de um target sólido usinado, com identificação gravada, indicado para equipamentos de alto vácuo, câmaras de deposição, sistemas de plasma e linhas de pesquisa e desenvolvimento (P&D).
Produto novo, sem uso, proveniente de estoque técnico/laboratorial, com acabamento compatível com aplicações científicas.
Os 6 discos são marcados com os seguintes identificadores: 01, 03, 10, 11, 30, 39
Aplicações Principais
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Processos de PVD (Physical Vapor Deposition)
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Sputtering reativo ou não reativo
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Deposição de filmes finos TiAl / TiAlN
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Revestimentos funcionais e estruturais
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Pesquisa metalúrgica e de materiais avançados
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Laboratórios universitários e institutos de pesquisa
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Indústria de revestimentos técnicos, ópticos e térmicos
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Sistemas de alto vácuo e plasma
PALAVRAS CHAVE:
Target TiAl
Disco Titânio Alumínio
TiAl 84:16
PVD Target
Sputtering Target
Titânio Alumínio Laboratório
Target PVD TiAl
Filmes Finos TiAl
Ciência dos Materiais
Equipamento Laboratorial
High Vacuum Target
Plasma Deposition
Dados do produto:
Tamanho: 15,5 x 1,2 em cm
Peso: 940 gramas
Não contém Manual, não contém embalagem original.
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O que você precisa saber:
O produto é original e novo, as fotos são reais do produto, nós que fotografamos e aplicamos fundo branco.
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